電子顕微鏡の世界トップメーカー。分析器や半導体装置、医療用機器にも展開している。

　注目は電子ビーム（ＥＢ）描画装置。これは半導体ウエハーに直接、あるいは半導体露光装置に使われるフォトマスクに回路を描画するための装置。半導体ウエハー製造プロセスの微細化に伴い、超精細の回路をより効率的に描画することへのニーズが高まっている。

　従来の装置は１本のＥＢを使うのに対し、同社が世界で初めて開発したマルチビーム方式では26万本のＥＢで一気に描画できるという。これにより、フォトマスクの製造時間を大幅に短縮できる。同社がＥＢを制御するコンポーネントを担当し、完成品はインテルの完全子会社のＩＭＳ社が行う模様。相当部分が同社の売り上げになると推測される。２０１７年に当初モデルの量産を開始し、現在では10ナノメートル（ナノは10億分の１…